無錫超純水設(shè)備|半導(dǎo)體行業(yè)超純水設(shè)備

超純水設(shè)備是采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。

工作原理：

1. 水進入純化系統(tǒng)，主要部分流入樹脂，膜內(nèi)部，而另一部分沿模板外側(cè)流動，以洗去透出膜外的離子。

2. 樹脂截留水中的溶存離子。

3. 被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負(fù)極方向運動。

4. 陽離子透過陽離子膜，排出樹脂，膜之外。

5. 陰離子透過陰離子膜，排出樹脂，膜之外。

6. 濃縮了的離子從廢水流路中排出。

7. 去離子水從樹脂，膜內(nèi)流出。

設(shè)備特點

1: 整體化程度高 , 易于擴展 , 增加膜數(shù)量即可增加處理量。

2: 自動化程度高 , 遇故障立即自停 , 具有自動保護功能。

3: 膜組件為復(fù)合膜卷制而成 , 表現(xiàn)出更高的溶質(zhì)分離率和透過速率。

4: 能耗低 , 水利用率高 , 運行成本低。

5: 結(jié)構(gòu)合理 , 占地面積少。

6: 先進的膜保護系統(tǒng) , 在設(shè)備關(guān)機 , 淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈 , 延長膜壽命。

7 系統(tǒng)無易損部件 , 無須大量維修 , 運行長期有效。

8: 設(shè)備設(shè)計有膜清洗系統(tǒng)用阻垢系統(tǒng)。

工藝流程

醫(yī)藥行業(yè)制備超水的工藝大致分成以下幾種：

1、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透 設(shè)備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點

2、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→ 微孔過濾器→用水點

3、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點

主要用途

1、超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗。

2、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗。

3、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)。

4、半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗。

5、電路板的生產(chǎn)和清洗。

6、其他高科技精細(xì)產(chǎn)品的生產(chǎn)。

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

超純水水質(zhì)分為五個行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

制取要求：

新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。

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