納米二氧化硅拋光粉

              納米二氧化硅拋光粉

 VK-SP20F/50F/100F

晶瑞新材料 甘先生 18620162680

我公司系列二氧化硅拋光粉產(chǎn)品均是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度顆粒均勻，分散性好，切削力好，鏡面效果好的拋光粉，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，

拋光范圍：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光

拋光特點(diǎn)：具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點(diǎn)。如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石玉器等的拋光加工。

我公司生產(chǎn)的納米二氧化硅拋光粉具有粒徑小、分散性好，粘度低，拋光亮度高，光澤細(xì)膩，可以解決材料表面粗糙度、波紋度和表面缺陷等問題。 可以做光學(xué)玻璃拋光，玻璃水鉆拋光，寶石拋光，金屬拋光，石材拋光等精密拋光。

 用量

推薦用量為8～20％，調(diào)成漿料再進(jìn)行拋光。使用者應(yīng)根據(jù)不同體系經(jīng)過試驗(yàn)決定最佳添加量

儲藏：常溫密閉儲藏。

包裝：10公斤/袋。